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      Eksma 菲涅耳菱形偏振

      簡要描述:Eksma 菲涅耳菱形偏振
      由于在全內反射時入射波的正交偏振分量中出現不相等的相移,因此使用菲涅耳菱形來改變輻射的偏振類型。

      • 產品品牌:Eksma
      • 廠商性質:經銷商
      • 更新時間:2025-11-02
      • 訪  問  量:1279

      詳細介紹

      品牌Eksma價格區間面議
      組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

      Eksma 菲涅耳菱形偏振





      由于在全內反射時入射波的正交偏振分量中出現不相等的相移,因此使用菲涅耳菱形來改變輻射的偏振類型。

      Eksma 菲涅耳菱形偏振

      產品介紹

      Ø旋轉偏振,在寬波長范圍內運行

      Øλ/ 2菱形是兩個光學接觸的λ/ 4菱形

      由于在全內反射時入射波的正交偏振分量中出現不相等的相移,因此使用菲涅耳菱形來改變輻射的偏振類型。它們的設計使得菱形內部的兩個全內反射在輻射的正交偏振分量之間提供了π/ 2的相位差。因此,如果線偏振入射平面的偏振之間存在45°角,則出射光束是圓偏振的,即菱形效果類似于四分之一波片。因此,串聯安裝的兩個相同的菲涅耳菱形將提供類似于半波片的π/ 2相位差。該設備可以將光束偏振平面旋轉90°,而光束方向不變。

      產品型號

      菲涅耳壁掛式菱形

      型號

      延遲

      支架直徑D

      波長范圍

      通光孔徑

      材料

      支架長度L

      480-0210

      λ /2

      73 mm

      600-900 nm

      10 mm

      BK7

      55 mm

      480-0410

      λ /4

      65 mm

      600-900 nm

      10 mm

      BK7

      25 mm

      480-0212

      λ /2

      73 mm

      400-700 nm

      10 mm

      BK7

      55 mm

      480-0414

      λ /4

      65 mm

      400-700 nm

      10 mm

      BK7

      25 mm

      480-1210

      λ /2

      73 mm

      210-400 nm

      10 mm

      UVFS

      55 mm

      480-1410

      λ /4

      65 mm

      210-400 nm

      10 mm

      UVFS

      25 mm

      未安裝的菲涅耳菱形

      型號

      延遲

      支架直徑D

      波長范圍

      通光孔徑

      材料

      支架長度L

      481-0210

      λ /2

      -

      600-900 nm

      10 mm

      BK7

      -

      481-0410

      λ /4

      -

      600-900 nm

      10 mm

      BK7

      -

      481-0212

      λ /2

      -

      400-700 nm

      10 mm

      BK7

      -

      481-0414

      λ /4

      -

      400-700 nm

      10 mm

      BK7

      -

      481-1210

      λ /2

      -

      210-400 nm

      10 mm

      UVFS

      -

      481-1410

      λ /4

      -

      210-400 nm

      10 mm

      UVFS

      -

      可根據要求提供其他尺寸和參數的菲涅耳菱形或鍍膜。請發送定制產品的請求。

      材料

      BK7, UVFS

      BK7工作光譜范圍:

      400-2000 nm

      UVFS工作光譜范圍:

      210-400 nm

      表面質量

      20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

      表面平整度

      λ/10 @ 633 nm (all polished surfaces)

      延遲公差

      ±2°

      寬帶增透膜

      R < 1%

      激光損傷閾值

      > 0.5 J/cm2, 10 nsec pulse, 1064 typical

       

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